主要応用分野
Manufacturing
製品・サービス概要
1. 低溫磊晶技術：採用物理性濺鍍，俗稱真空濺鍍，是利用電場將工作氣體解離後產生電漿，並且加速撞擊靶材後，將靶材上的材料濺射到基板上，透過適當的技術與設備，能夠產生良好的薄膜化學反應及高品質的磊晶薄膜。
2. 自我補償膜厚技術：濺鍍磊晶技術，透過電漿撞擊靶材後產生的濺射效果，使得材料噴射的角度幾乎為常數，因此透過適當的工作距離、靶材與基板的相對位置、基板的旋轉等參數，能夠在8-12吋晶圓尺寸得到均勻的薄膜厚度，晶圓中心與邊緣的薄膜厚度誤差為1%。
2. 自我補償膜厚技術：濺鍍磊晶技術，透過電漿撞擊靶材後產生的濺射效果，使得材料噴射的角度幾乎為常數，因此透過適當的工作距離、靶材與基板的相對位置、基板的旋轉等參數，能夠在8-12吋晶圓尺寸得到均勻的薄膜厚度，晶圓中心與邊緣的薄膜厚度誤差為1%。
設立年
2017
会社番号
69727061
企業ステータス
事業継続中
チームの規模
0
実払資本金
5,000,000 (元/新台湾ドル)
登録住所
台湾
, 新竹市
ウェブサイトリンク
設立年、会社形態、責任者、資本金、登記住所は「経済部商務発展司全国商工管理サービスポータル」より取得したものです。
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会社概要
進化光學有限公司(Microluce, LTD)成立於2017年10月，透過科技部萌芽計畫輔助並且設立公司，將大學內的高端技術技轉到業界，技術成員來自國立中央大學薄膜技術中心師生，並且搭配業界高階經理人，開發濺鍍技術以及設備來製作氮化鎵低溫磊晶，目標是8-12吋的矽基氮化鎵磊晶片。根據不同的商業模式，我們也可以配合客戶做設備買賣以及開發。
